HORIBA真空紫外橢偏儀UVISEL 2 VUV
HORIBA真空紫外橢偏儀UVISEL 2 VUV概述
專為VUV 測量設計，整個系統處于真空狀態，無氧氣吸收。具備高度準確性；****的超快測量速度；快速樣品室抽真空能力，方便快速更換樣品；氮氣消耗量少。
重點應用領域
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超薄膜
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157nm 光刻新材料
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有機材料、高分子材料
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高k 材料：HfO2、Al2O3、TiO2、HfxAlyOz
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抗反射涂層
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半導體和介電材料電子躍遷
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MgF2、CaF2、LaF3
HORIBA真空紫外橢偏儀UVISEL 2 VUV特點
★ 50KHz 高頻PEM 相位調制技術
★ 45 秒內完成充氮氣
★ 2 分鐘內完成樣品室抽真空
★ 8 分鐘內完成光譜全譜范圍內測量
★ 兩種工作模式：氮氣清洗結合抽
★ 真空、連續氮氣清洗
★ 光譜范圍：147nm~850nm；147nm~2100nm
